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納米級(jí)平板涂刮設(shè)備

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Nano BC-18 刮涂設(shè)備(Blade coating)是針對(duì)有機(jī)電子學(xué)領(lǐng)域(包括有機(jī)/鈣鈦礦太陽能電池、有機(jī)場效應(yīng)晶體管、有機(jī)發(fā)光二極管等),光學(xué)薄膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、擴(kuò)散膜等)制造等,而設(shè)計(jì)開發(fā)的一款具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的大面積專業(yè)制膜設(shè)備。
產(chǎn)品詳情

  Nano BC-18 刮涂設(shè)備(Blade coating)是針對(duì)有機(jī)電子學(xué)領(lǐng)域(包括有機(jī)/鈣鈦礦太陽能電池、有機(jī)場效應(yīng)晶體管、有機(jī)發(fā)光二極管等),光學(xué)薄膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、擴(kuò)散膜等)制造等,而設(shè)計(jì)開發(fā)的一款具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的大面積專業(yè)制膜設(shè)備。

  相比市面上傳統(tǒng)應(yīng)用于油墨/漿料等材料的涂布設(shè)備,該款設(shè)備可以從多個(gè)維度對(duì)薄膜沉積進(jìn)行調(diào)控,因此適用于制備厚度從幾納米到微米級(jí)的薄膜。同時(shí)配備完整且精密的控制系統(tǒng)以及原位監(jiān)控系統(tǒng),操作便捷且人性化,工藝摸索簡易可傳承,可多方位幫助用戶得到理想的較佳膜厚。

  產(chǎn)品參數(shù)

  較大基片尺寸: 210*210mm

  基臺(tái)平整度: <2um

  運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu): 氣浮導(dǎo)軌結(jié)合直線伺服

  刮刀: 有效較大外寬MAX220mm

  刮刀平整度: 2um

  涂布刀頭(風(fēng)刀刮刀一體式)升降分辨率:0.001mm

  涂布刀頭(風(fēng)刀刮刀一體式)升降速度: 0.01mm/s-15mm/s

  涂布刀頭(風(fēng)刀刮刀一體式)移動(dòng)分辨率:0.001mm

  涂布刀頭(風(fēng)刀刮刀一體式)移動(dòng)速度: 1mm/s-100mm/s

  涂布刀頭(風(fēng)刀刮刀一體式)與平臺(tái)平行度 :<5um

  涂布行走速度均勻性: 小于0.5%(50mm/s)

  人機(jī)交互系統(tǒng): 外置PC控制系統(tǒng)

  閃蒸系統(tǒng): 標(biāo)配閃蒸系統(tǒng),風(fēng)刀系統(tǒng)可選

  尺寸: 800mm(W)*700mm(D)*700mm(H

  工藝驗(yàn)證

  ·2英寸超薄有機(jī)Dif-TES-ADT膜

  ·平均厚度4.62 nm

  ·表面覆蓋率100%

  ·表面粗糙度1.5 nm

  ·條件:刮涂速度1 mm/s,刮刀角度30°,溫度60℃

  蘇州大學(xué):Nanoscale Horiz. 2020, DOI: 10.1039/d0nh00096e

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Nano BC-18 刮涂設(shè)備(Blade coating)是針對(duì)有機(jī)電子學(xué)領(lǐng)域(包括有機(jī)/鈣鈦礦太陽能電池、有機(jī)場效應(yīng)晶體管、有機(jī)發(fā)光二極管等),光學(xué)薄膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、擴(kuò)散膜等)制造等,而設(shè)計(jì)開發(fā)的一款具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的大面積專業(yè)制膜設(shè)備。
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  Nano BC-18 刮涂設(shè)備(Blade coating)是針對(duì)有機(jī)電子學(xué)領(lǐng)域(包括有機(jī)/鈣鈦礦太陽能電池、有機(jī)場效應(yīng)晶體管、有機(jī)發(fā)光二極管等),光學(xué)薄膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、擴(kuò)散膜等)制造等,而設(shè)計(jì)開發(fā)的一款具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的大面積專業(yè)制膜設(shè)備。

  相比市面上傳統(tǒng)應(yīng)用于油墨/漿料等材料的涂布設(shè)備,該款設(shè)備可以從多個(gè)維度對(duì)薄膜沉積進(jìn)行調(diào)控,因此適用于制備厚度從幾納米到微米級(jí)的薄膜。同時(shí)配備完整且精密的控制系統(tǒng)以及原位監(jiān)控系統(tǒng),操作便捷且人性化,工藝摸索簡易可傳承,可多方位幫助用戶得到理想的較佳膜厚。

  產(chǎn)品參數(shù)

  較大基片尺寸: 210*210mm

  基臺(tái)平整度: <2um

  運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu): 氣浮導(dǎo)軌結(jié)合直線伺服

  刮刀: 有效較大外寬MAX220mm

  刮刀平整度: 2um

  涂布刀頭(風(fēng)刀刮刀一體式)升降分辨率:0.001mm

  涂布刀頭(風(fēng)刀刮刀一體式)升降速度: 0.01mm/s-15mm/s

  涂布刀頭(風(fēng)刀刮刀一體式)移動(dòng)分辨率:0.001mm

  涂布刀頭(風(fēng)刀刮刀一體式)移動(dòng)速度: 1mm/s-100mm/s

  涂布刀頭(風(fēng)刀刮刀一體式)與平臺(tái)平行度 :<5um

  涂布行走速度均勻性: 小于0.5%(50mm/s)

  人機(jī)交互系統(tǒng): 外置PC控制系統(tǒng)

  閃蒸系統(tǒng): 標(biāo)配閃蒸系統(tǒng),風(fēng)刀系統(tǒng)可選

  尺寸: 800mm(W)*700mm(D)*700mm(H

  工藝驗(yàn)證

  ·2英寸超薄有機(jī)Dif-TES-ADT膜

  ·平均厚度4.62 nm

  ·表面覆蓋率100%

  ·表面粗糙度1.5 nm

  ·條件:刮涂速度1 mm/s,刮刀角度30°,溫度60℃

  蘇州大學(xué):Nanoscale Horiz. 2020, DOI: 10.1039/d0nh00096e

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