隨著鈣鈦礦太陽能電池功率轉(zhuǎn)換效率（PCE）超過24％，研究重點已經(jīng)轉(zhuǎn)移到商業(yè)化密切相關(guān)的問題上。其中關(guān)鍵障礙之一是在大規(guī)模制造設(shè)備時很大程度地減少單元到模塊的PCE損耗。由于旋涂的工藝解決方案受限于可擴展性，因此，建立可擴展的鈣鈦礦層沉積工藝是大面積鈣鈦礦太陽能電池組件的先決條件。

作為一種預(yù)先計量的涂布方法，狹縫涂布機在材料使用方面非常高效，與其他沉積方法(如旋轉(zhuǎn)涂布或噴涂和絲網(wǎng)印刷)相比，油墨的損耗水平非常低。

工藝原理：

應(yīng)用于不同基材表面的涂布，如玻璃，不銹鋼和塑料基片；

通過預(yù)劑量計算，精確控制涂布頭相對于基底的移動速度，及系統(tǒng)的供液速度，實現(xiàn)良好涂布。

關(guān)鍵優(yōu)勢：

可涂布不同粘度的各種材料

涂布厚度范圍廣: 從20nm 到150μm以上

很好的涂布一致性: 通常優(yōu)于± 5%

效率高/材料利用率高: 材料利用率可達95%

能夠滿足不同需求：從研發(fā)到小批量試制

工藝具有高的可靠性和魯棒性: 良率可達到 95%

完善成熟的技術(shù)支持

涂布間隙控制：高準確，動態(tài)控制涂布頭高度 (z軸)

控制參數(shù)：

模具運動控制: 在涂布方向上(x軸)精確控制模具的運動軌跡(包括加速和減速參數(shù))

涂布頭設(shè)計: 針對高一致性、化學兼容性、低充填容量和條狀涂布進行模具設(shè)計制造

涂布控制: 涂布速率(穩(wěn)態(tài)涂布) 和厚邊效應(yīng) (前后邊緣)的高精度數(shù)字化控制

控制軟件: 所有配方參數(shù)，數(shù)據(jù)監(jiān)控和反饋控制，數(shù)據(jù)采集分析

涂布面積：200*200mm起，較大至300*400mm