進(jìn)口Harrick Plasma公司的等離子體表面處理儀是一種小型化、超清洗設(shè)備。其采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。

外接一臺(tái)真空非破壞性的泵，短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉，同時(shí)污染物被等離子體表面處理儀的真空泵抽走，其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。

適用于去除納米級(jí)的殘留物，加強(qiáng)鍵合前的粘著性，在材料表面產(chǎn)生官能分子團(tuán)，渲染表面的親水性或疏水性鍵合和沉積前的表面預(yù)處理以及聚合物處理等表面處理工藝。

性能參數(shù)：