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國(guó)產(chǎn)膜厚測(cè)量?jī)x

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薄膜應(yīng)用廣泛,在半導(dǎo)體、精密設(shè)備等行業(yè)中發(fā)揮著非常重要的作用。當(dāng)一束光入射到薄膜表面時(shí),薄膜上表面與下表面的反射光會(huì)發(fā)生干涉,通常稱為多光束干涉。干涉的發(fā)生與薄膜厚度、入射傾角及材料的光學(xué)常數(shù)等相關(guān),而膜厚儀就是基于此原理來(lái)測(cè)試透明光學(xué)薄膜的厚度。目前該設(shè)備可以測(cè)量常用膜系:二氧化硅、氮化硅、光刻膠、ITO以及厚膠帶材料等。
產(chǎn)品詳情

  薄膜應(yīng)用廣泛,在半導(dǎo)體、精密設(shè)備等行業(yè)中發(fā)揮著非常重要的作用。當(dāng)一束光入射到薄膜表面時(shí),薄膜上表面與下表面的反射光會(huì)發(fā)生干涉,通常稱為多光束干涉。干涉的發(fā)生與薄膜厚度、入射傾角及材料的光學(xué)常數(shù)等相關(guān),而膜厚儀就是基于此原理來(lái)測(cè)試透明光學(xué)薄膜的厚度。目前該設(shè)備可以測(cè)量常用膜系:二氧化硅、氮化硅、光刻膠、ITO以及厚膠帶材料等。

  FilmExpert測(cè)試軟件能夠提供兩種測(cè)量方式:光譜匹配法和FFT。其中前者主要用于5um以下的膜厚測(cè)試,F(xiàn)FT測(cè)試厚膜的效果比較明顯。FilmExpert能提供膜層厚度測(cè)量、膜層介質(zhì)的折射率n和消光系數(shù)k。由于配備精密多維運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng),可以實(shí)現(xiàn)隨樣品高度隨動(dòng),以及二維的膜厚mapping功能。在做樣品表面掃描時(shí),mapping提供兩種選項(xiàng):極坐標(biāo)方案和直角坐標(biāo)方案。此外,我們提供多種經(jīng)驗(yàn)證的材料庫(kù)資源,并且開放用戶的材料自增加和編輯功能,便于擴(kuò)展。

  產(chǎn)品特點(diǎn)

  掃描整個(gè)樣品上的膜層厚度,并三維顯示

  批量測(cè)量及結(jié)果統(tǒng)計(jì)分析

  機(jī)器視覺輔助測(cè)量區(qū)域定位與診斷

  應(yīng)用領(lǐng)域 鍍膜層厚度測(cè)量/光刻膠厚度測(cè)量/金屬膜厚度測(cè)量

  型號(hào) Fundation 20(通用版) Premier50(進(jìn)階版)

  測(cè)量厚度范圍 20nm-70um 20nm-70um

  測(cè)n和k值最小厚度要求 100nm 100nm

  波長(zhǎng)范圍 400-1100 400-1100

  準(zhǔn)確度 Max(0.2%*d,2nm) Max(0.2%*d,2nm)

  精度 0.02 nm 0.02 nm

  穩(wěn)定性 0.05nm 0.05nm

  光斑大小 2mm 標(biāo)準(zhǔn)版本:2mm,顯微版本:最優(yōu)至150um

  光源壽命 >2000 hours

  樣品尺寸 <= D200 mm <= D300 mm

  測(cè)量速度 手動(dòng)移樣,測(cè)量耗時(shí)<0.5數(shù)據(jù)點(diǎn)/秒 自動(dòng)Mapping,1數(shù)據(jù)點(diǎn)/秒

  軟件運(yùn)行環(huán)境 Windows 10,64-bit,16G RAM,1T HD

國(guó)產(chǎn)膜厚測(cè)量?jī)x
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  薄膜應(yīng)用廣泛,在半導(dǎo)體、精密設(shè)備等行業(yè)中發(fā)揮著非常重要的作用。當(dāng)一束光入射到薄膜表面時(shí),薄膜上表面與下表面的反射光會(huì)發(fā)生干涉,通常稱為多光束干涉。干涉的發(fā)生與薄膜厚度、入射傾角及材料的光學(xué)常數(shù)等相關(guān),而膜厚儀就是基于此原理來(lái)測(cè)試透明光學(xué)薄膜的厚度。目前該設(shè)備可以測(cè)量常用膜系:二氧化硅、氮化硅、光刻膠、ITO以及厚膠帶材料等。

  FilmExpert測(cè)試軟件能夠提供兩種測(cè)量方式:光譜匹配法和FFT。其中前者主要用于5um以下的膜厚測(cè)試,F(xiàn)FT測(cè)試厚膜的效果比較明顯。FilmExpert能提供膜層厚度測(cè)量、膜層介質(zhì)的折射率n和消光系數(shù)k。由于配備精密多維運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng),可以實(shí)現(xiàn)隨樣品高度隨動(dòng),以及二維的膜厚mapping功能。在做樣品表面掃描時(shí),mapping提供兩種選項(xiàng):極坐標(biāo)方案和直角坐標(biāo)方案。此外,我們提供多種經(jīng)驗(yàn)證的材料庫(kù)資源,并且開放用戶的材料自增加和編輯功能,便于擴(kuò)展。

  產(chǎn)品特點(diǎn)

  掃描整個(gè)樣品上的膜層厚度,并三維顯示

  批量測(cè)量及結(jié)果統(tǒng)計(jì)分析

  機(jī)器視覺輔助測(cè)量區(qū)域定位與診斷

  應(yīng)用領(lǐng)域 鍍膜層厚度測(cè)量/光刻膠厚度測(cè)量/金屬膜厚度測(cè)量

  型號(hào) Fundation 20(通用版) Premier50(進(jìn)階版)

  測(cè)量厚度范圍 20nm-70um 20nm-70um

  測(cè)n和k值最小厚度要求 100nm 100nm

  波長(zhǎng)范圍 400-1100 400-1100

  準(zhǔn)確度 Max(0.2%*d,2nm) Max(0.2%*d,2nm)

  精度 0.02 nm 0.02 nm

  穩(wěn)定性 0.05nm 0.05nm

  光斑大小 2mm 標(biāo)準(zhǔn)版本:2mm,顯微版本:最優(yōu)至150um

  光源壽命 >2000 hours

  樣品尺寸 <= D200 mm <= D300 mm

  測(cè)量速度 手動(dòng)移樣,測(cè)量耗時(shí)<0.5數(shù)據(jù)點(diǎn)/秒 自動(dòng)Mapping,1數(shù)據(jù)點(diǎn)/秒

  軟件運(yùn)行環(huán)境 Windows 10,64-bit,16G RAM,1T HD

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