該涂布設備用于在不同的基材上制備薄膜。對于薄膜制備實驗，科研人員通常要應對各種性質(zhì)不同的溶液，并涂布出各種厚度的薄膜獲取數(shù)據(jù)或改進工藝。此時，多次同參數(shù)涂布制備出的試片批次內(nèi)一致性和批次間的重復性決定實驗結(jié)果的準確與否。本設備可以精密調(diào)節(jié)涂膜時間隙大小，涂布速度等參數(shù)，利用光柵尺、位移傳感器等閉環(huán)反饋手段還能保證每次實驗時再現(xiàn)同樣的條件，極大程度去除回轉(zhuǎn)空程、傳動背隙、熱膨脹等不穩(wěn)定因素帶來的誤差，得到較佳實驗效果，提高科研效率。

　　技術參數(shù)

　　工業(yè)全彩觸屏友好人機界面，操作簡便

　　304高精度研磨面板，自帶真空吸附和氣動反吹取片功能

　　高精度直線電機系統(tǒng)，準確控制速率

　　配備高精度標準線棒/光軸

　　帶FFU排風功能，保證內(nèi)部空氣有效循環(huán)流通

　　較大可容納基片尺寸：450*650mm

　　平臺平整度：<10um

　　運動平面度：<10um

　　刮刀升降分辨率：0.01mm

　　刮涂速度：1-1000mm/s

　　風刀系統(tǒng)：均勻出風，氣源接口適用6*4mm氣管

　　電源輸入：AC220V

　　額定功率：2000W